健康咨詢描述: 檢查項目:MRI-顱腦平掃 放射學(xué)所見: 雙側(cè)額葉區(qū)可見點狀異常信號病灶,T1WI低信號,T2WI高信號,F(xiàn)LAIR高信號。額部鐮旁可見類圓形T1WI等信號,T2WI稍高信號,大小約8x13mm。蝶鞍內(nèi)腦脊液信號填充,垂體變扁。余腦內(nèi)實質(zhì)未見明顯異常信號。腦溝、腦裂、腦池未見增寬,腦室未見擴大,中線結(jié)構(gòu)居中。 附見:左側(cè)上顎竇粘膜輕度增厚。
病情分析:
您好!根據(jù)你描述的情況,患有左側(cè)上顎竇粘膜輕度增厚,去正規(guī)醫(yī)院專科檢查。
指導(dǎo)意見:
建議去正規(guī)醫(yī)院??茩z查,針對性治療,注意保暖,避免著涼,注意休息,避免勞累,保持充足的睡眠,進食有營養(yǎng)的食物,保持心情放松。
你好,根據(jù)你吃供振檢查結(jié)果。有可能是上顎竇炎或者過敏性鼻炎引起的鼻子堵塞現(xiàn)象。建議去耳鼻喉科專家就診,并根據(jù)情況給予相應(yīng)的藥物治療。
以上是對“檢查項目:MRI-顱腦平掃 放射學(xué)所見: 雙側(cè)”這個問題的建議,希望對您有幫助,祝您健康!
指導(dǎo)意見:
你好,我很樂意為你解答這個問題。你做了顱腦核磁,基本上沒看見什么問題。最后診斷左側(cè)上顎竇粘膜輕度增厚。你可以對癥治療的,希望能夠幫到你。
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